It-tindif tal-wejfer jirreferi għall-proċess tal-użu ta 'metodi kimiċi jew fiżiċi biex jitneħħew il-kontaminanti u l-ossidi mill-wiċċ ta' wejfer waqt il-manifattura ta 'ċirkwiti integrati, sabiex jissodisfaw ir-rekwiżiti tal-indafa tal-wiċċ tal-wejfer. Il-prinċipju tat-tindif tal-wejfer huwa li jitneħħew diversi impuritajiet mingħajr ma ssir ħsara lill-wejfer.
Hemm erba 'mekkaniżmi ewlenin għat-tneħħija tal-partiċelli: xoljiment, dekompożizzjoni ossidattiva, repulsjoni elettrika bejn partiċelli u uċuħ tal-wejfer tas-silikon, u korrużjoni żgħira tal-uċuħ tal-wejfer tas-silikon.
Għat-tneħħija ta 'partiċelli tal-metall, is-soluzzjoni SC-2 jew is-soluzzjoni HPM normalment tintuża biex tnaqqas il-kontenut tal-metall fuq il-wiċċ tal-wejfer. Is-soluzzjoni SC-2 tgħaddi minn kristallizzazzjoni, li tista 'żżid in-numru ta' partiċelli fuq il-wiċċ tal-wejfer wara t-tindif. Għalhekk, HF jista 'jintuża minflok HCL, jew O3 flimkien ma' HF jista 'jintuża minflok soluzzjoni SC-2 biex tneħħi b'mod effettiv il-partiċelli tal-metall.
Għal sustanzi li jniġġsu organiċi, soluzzjoni SPM jew teknoloġija ta 'tindif niexef UV/ożonu normalment tintuża għat-tneħħija.
Wara t-tindif bl-imxarrab, il-wejfer għandu jitnixxef sewwa biex jiġi żgurat li ma jkunx hemm marki tal-ilma fuq il-wiċċ qabel ma tidħol fil-proċess li jmiss. It-tliet modi ta 'tnixxif l-aktar komuni disponibbli bħalissa huma tnixxif li jdur, tnixxif Marangoni, u tnixxif ta' atomizzazzjoni ta 'isopropanol sħun.
