Photoresist huwa taħlita ta 'polimeri u xi komposti, fosthom l-aktar importanti huwa ġeneratur ta' aċidu fotografiku (PAG). Meta l-fotoni jolqtu l-PAG, jiġi prodott aċidu li jirreaġixxi mal-polimeru, jiddekomponuh u jikkawża li jinħall mill-iżviluppatur.
Fotolithography photoresist huwa normalment maqsum f'żewġ tipi: photoresist pożittiv u photoresist negattiv.
Photoresist pożittiv: Il-porzjon espost huwa solubbli fis-soluzzjoni tal-iżviluppatur, filwaqt li l-porzjon mhux espost ma jinħallx fis-soluzzjoni tal-iżviluppatur. Wara l-iżvilupp, il-mudell photoresist li jifdal fuq is-sottostrat huwa l-istess bħall-mudell fil-mira fuq il-pjanċa tal-maskra.
Fotoreżist negattiv: Il-porzjon espost huwa insolubbli fis-soluzzjoni tal-iżviluppatur, filwaqt li l-porzjon mhux espost huwa solubbli fis-soluzzjoni tal-iżviluppatur. Il-mudell fotoresist li jifdal fuq is-sottostrat wara l-iżvilupp huwa komplementari għall-mudell fil-mira fuq il-pjanċa tal-maskra.
Għalhekk, għal photoresist pożittiv, l-inċiżjoni tas-sottostrat mingħajr il-protezzjoni tal-photoresist wara li titlesta l-fotolitografija, u finalment taħsel il-photoresist li jifdal, tikseb il-proċess ta 'kostruzzjoni ta' -pass wieħed ta 'apparati semikondutturi fuq il-wiċċ tas-sottostrat.
