Stampar bil-Projezzjoni
Simili għall-fotografija tal-films, billi tagħfas il-buttuna tax-shutter, id-dawl jiġi pproġettat fuq il-film permezz tal-lenti u espost. Wara, l-immaġni tinkiseb billi tixxarrab il-film f'soluzzjoni ta 'żvilupp permezz ta' "ħasil tar-ritratti". Il-litografija tal-projezzjoni hija t-teknoloġija tal-litografija mainstream għal ċirkwiti integrati minħabba l-effiċjenza għolja tagħha u l-vantaġġi mhux-distruttivi.
3a. Stampar tal-Proġett tal-Iskanjar
Ir-riċerka bdiet lejn l-aħħar tas-snin sebgħin u l-bidu tas-snin tmenin. Id-daqs tal-maskra u l-mudell f'din il-magna tal-litografija huwa 1:1, li jfisser li d-daqs fuq il-maskra huwa l-istess bħad-daqs tal-mudell fuq il-photoresist. Ir-raġuni għaliex tissejjaħ skanjar hija minħabba li d-dawl jiġi trażmess minn qasma dejqa fuq is-sottostrat, li ġeneralment jesponi diversi linji f'daqqa. Is-sottostrat jeħtieġ li jiġi mċaqlaq biex jesponi ż-żoni kollha b'enerġija ħafifa.
Karatteristiċi: In-nodi tal-proċess ivarjaw minn 180 nm sa 130 nm, proporzjon tal-pjanċa tal-maskra ta '1:1, espożizzjoni ta' daqs sħiħ-.
3b. Istampar tal-proġett li jirrepeti l-pass (magħruf ukoll bħala Stepper)
Ir-riċerka bdiet fl-aħħar tas-snin 80 u 90, bl-użu ta 'sistema ta' lenti biex tipproġetta mudelli minn maskra fuq sottostrat wieħed wieħed fuq żona żgħira. Wara kull espożizzjoni ta 'żona żgħira, is-sottostrat se jimxi għall-pożizzjoni li jmiss sakemm is-sottostrat kollu jiġi espost. Żona esposta hija 'shot'. Minħabba li hija pproġettata permezz ta 'sistema tal-lenti, pjanċa ta' 5 darbiet ġeneralment tintuża meta tuża dawl ultravjola ta '365nm, li jfisser li d-daqs tal-mudell fuq il-pjanċa tal-maskra huwa 5 darbiet id-daqs tal-fotoreżist attwali. Għalhekk, mudelli aktar kumplessi jistgħu jiġu ddisinjati fuq il-pjanċa tal-maskra, iżda żżid id-diffikultà tal-manifattura tas-sistema tal-priżma.
3c. Scanning Step Project Printing (magħruf ukoll bħala Scanner)
Sa mill-aħħar tad-disgħinijiet, dan it-tip ta' magna ġeneralment jintuża fil-manifattura ta' semikondutturi high-high-end għal proċessi b'dijametru ta' Inqas minn jew ugwali għal 0.18 μ m. Matul il-proċess ta 'espożizzjoni, il-maskra timxi f'direzzjoni waħda filwaqt li l-wejfer timxi b'mod sinkroniku f'direzzjoni perpendikolari għaliha.
Karatteristiċi: Żieda fil-kamp viżiv għal kull espożizzjoni; Ipprovdi kumpens għall-wiċċ irregolari tal-wejfers tas-silikon; Ittejjeb l-uniformità tad-daqs tal-wejfer tas-silikon kollu. Madankollu, minħabba l-ħtieġa għal mozzjoni b'lura, ir-rekwiżiti ta 'preċiżjoni tas-sistema mekkanika jiżdiedu. L-iskaners normalment ikollhom effiċjenza tal-produzzjoni ogħla minn magni oħra ta 'espożizzjoni, u d-disinn u l-manifattura tagħhom huma kumplessi ħafna. L-ispejjeż tax-xiri u l-manutenzjoni tal-iskaners huma wkoll għoljin.
Litografija b'żewġ-naħat ta' preċiżjoni għolja
Prinċipalment użat għar-riċerka u l-produzzjoni ta 'ċirkwiti integrati ta' daqs żgħir u medju-, komponenti semikondutturi, apparati optoelettroniċi, apparati tal-mewġ akustiku tal-wiċċ, ċirkwiti ta 'film irqiq, u apparat elettroniku tal-qawwa.
Il-magna tal-litografija b'żewġ-naħat tinkludi sistema ta 'kontroll tal-moviment, sistema ta' proċessar tal-immaġni, softwer tas-sistema, u unità ta 'kontroll tal-ipproċessar tal-I/O tad-data.
Litografija ta'-naħa waħda ta' preċiżjoni għolja
Magna tal-litografija ta '-preċiżjoni għolja żviluppata għal diversi kulleġġi, universitajiet, intrapriżi, u istituzzjonijiet ta' riċerka bbażati fuq il-karatteristiċi tal-użu tal-magni tal-litografija. Jintuża għar-riċerka u l-produzzjoni ta 'ċirkwiti integrati ta' daqs żgħir u medju-, komponenti semikondutturi, apparati optoelettroniċi, u apparati tal-mewġ akustiku tal-wiċċ.
Tikkonsisti f'mejda ta 'ħidma ta' allinjament ta '-preċiżjoni għolja, sistema ta' wiri mikroskopiku CCD bi kamp viżiv binokulari separat, ras ta 'espożizzjoni, sistema pnewmatika, sistema ta' pipeline tal-vakwu, pompa tal-vakwu mingħajr żejt konness dirett -, mejda tax-xogħol kontra l-vibrazzjoni, u kaxxa aċċessorja.
Issolvi l-kwistjoni ta' allinjament ħażin ikkawżat mill-inabbiltà li tissepara l-pjanċi minħabba sottostrati mhux-ċirkolari, frammenti, u uċuħ tas-sottostrat irregolari.
